シリコンステンシルマスク

フォトマスクは、半導体製造工程で重要な役割を果たすもので、半導体ウェハ―に回路を転写するための原版です。回路パターンのデータをもとに電子ビームでフォトマスク基板（マスクブランクス）上に回路パターンを作り、その後、化学薬品をなどを使ったエッチングやフォトレジスト（感光材料）剥離、洗浄、測定、検査を経てフォトマスクができあがります。

ナノインプリントとは、原版となるモールド（金型）を型押しすることで、数十メートル単位のパターンを転写する微細加工技術です。
工程がシンプルなため、微細構造体を安価に再現性良く大量に製造する技術として期待されています。

超微細加工技術を駆使して、半導体向けのほか、各種産業用・研究開発用などにも高精細で信頼性の高いフォトマスクを提供しています。

シリコンステンシルマスクは、パターンを形成するためにナノスケールの貫通開口を加工した電子ビームリソグラフィ（EBリソグラフィ：Electron Beam Lithography）用のフォトマスクです。