各種用途向けフォトマスク
各種用途向けフォトマスクとは
超微細加工技術を駆使して半導体向けのほか、各種産業用・研究開発用などにも高精細で信頼性の高いフォトマスクを販売しています。
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特徴
様々な用途に対応
産業用、研究開発用など様々な分野でのフォトマスクの需要に対応しています。
＜供給実績例＞
MEMS用マスク
IC(バンプ)用マスク
半導体パッケージ用マスク
マイクロレンズアレイ用マスク
LED用マスク
サーマルヘッド用マスク
装置精度管理用マスク
テストチャート
高精細印刷用原版
各種研究開発用マスク
その他、お気軽にご相談ください
主な仕様
■ マスクサイズ5インチ(127.0mm)角、6インチ(152.4mm)角
その他のサイズにつきましてもご相談ください。
■ 受入データフォーマットGDSデータ、GBRデータほか、図面支給でも対応可能です。
■ 基材ほか合成石英、ソーダライムガラス (厚み：0.09～0.25インチ)ペリクル貼付の対応可能です。
テクセンドテストチャート
高純度のガラス基板上に、クロムでベーシックな形状のパターンを形成したフォトマスクです。ポジタイプとネガタイプを用意しています。
装置の精度管理、解像度確認やフォトレジスト選定時の評価基準などの用途にご利用いただけます。
3Dマスク（グレースケールマスク）
半導体用フォトマスクの高精細で信頼性の高い技術を応用した、3Dフォトマスク(グレースケールマスク)です。
光量透過を制御することで、マイクロレンズなどの３次元構造を形成することが可能です。
マイクロレンズProlith像
３Dマスクの実転写例
（レジストのAFM像）
パターン形状例
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